什么是衍射光柵？

衍射光柵是一種將能量衍射成其組成波長的光學(xué)元件。衍射光柵和棱鏡之間的主要區(qū)別在于棱鏡的色散是非線性的，而光柵提供線性色散。光柵通常也更有效，并且不會(huì)受到限制棱鏡有用波長范圍的吸收效應(yīng)的影響。

光柵的凹槽密度、深度和輪廓決定了光柵的光譜范圍、效率、分辨率和性能。

通常有兩種不同類型的衍射光柵——刻劃光柵和全息光柵。

刻劃衍射光柵是由刻劃引擎產(chǎn)生的，該刻劃引擎使用金剛石尖工具在光柵基板（通常是涂有薄反射層的玻璃）上的涂層上切出凹槽。 全息衍射光柵是使用光刻技術(shù)生產(chǎn)的。

衍射光柵可以是反射光柵或透射光柵，但是，本指南將主要關(guān)注反射光柵。

最常見的反射式衍射光柵類型是平面和凹面光柵，但根據(jù)應(yīng)用它們也可以是其他輪廓，例如凸面或環(huán)形。

衍射光柵通常由三層組成：基底（通常是玻璃）、形成凹槽的環(huán)氧樹脂或金屬層以及反射涂層。 光柵可以具有正弦或閃耀輪廓。正弦光柵通常比閃耀光柵提供更低的效率，但通常提供更廣泛的光譜覆蓋范圍。

   閃耀光柵具有鋸齒形輪廓，通常在規(guī)定的光譜范圍內(nèi)提供更高的效率。

反射光柵通常涂有反射涂層，通常是帶有保護(hù)涂層的鋁（用于 UV-VIS-NIR 使用）或金（用于 IR 使用）。 透射光柵通常帶有抗反射涂層。

商業(yè)衍射光柵通常是由子母版生產(chǎn)的復(fù)制品光柵，其可能比母版衍射光柵低幾代。

通常，生產(chǎn)主衍射光柵的成本昂貴，并且通過提供復(fù)制光柵（其提供幾乎無法區(qū)分的性能），一個(gè)主衍射光柵可以生產(chǎn)數(shù)千個(gè)復(fù)制品，從而降低了衍射光柵的單位成本。

光柵方程

反射光柵的一般光柵方程為:

其中

n = 衍射級(jí)數(shù)

λ = 衍射波長

d = 光柵常數(shù)（凹槽之間的距離）

θi  = 入射角（從法線測量）

θ = 衍射角（從法線測量）

該方程允許您非常精確地預(yù)測任何給定波長的光方向。

光柵色散

衍射光柵用于將光分成不同的波長，或色散光。角色散是衍射角的變化與波長的微小變化之間的相關(guān)性。 

角色散為：

其中：

b = 繞射角

k = 衍射級(jí)

n = 溝槽密度

線性色散將隨著光柵到探測器的距離而變化。 線性色散為：

其中：

b = 繞射角

k = 衍射級(jí)

n = 溝槽密度

LB  = 光柵到探測器的距離

利用這些基本方程，人們可以設(shè)計(jì)出高精度的光譜儀器。 它們用于設(shè)計(jì)實(shí)驗(yàn)室光譜儀、高光譜成像儀、電信、脈沖激光和現(xiàn)代光學(xué)系統(tǒng)中的其他設(shè)備中使用的光譜傳感器。

光柵效率

光柵的效率取決于幾個(gè)條件：

• 波長

• 偏振

• 入射角

• 衍射級(jí)

• 凹槽形狀

• 金屬涂層（用于反射光柵）

凹槽的形狀將極大地影響反射式光柵的衍射能量。 反射光柵的高效率是通過閃耀或鋸齒形凹槽實(shí)現(xiàn)的（見圖 3）。 因此，通常要求使用閃耀光柵。

可以使用幾種不同的方法來閃耀光柵。我們使用專有技術(shù)可以創(chuàng)建紫外閃耀光柵，與離子蝕刻閃耀全息光柵相比，其效率更高。

漫射光

當(dāng)選擇的波長以外的波長出現(xiàn)在測量平面上時(shí)，就會(huì)出現(xiàn)雜散光。 它通常是由衍射、光柵表面缺陷引起的光散射或重影級(jí)（例如刻劃光柵間距中的周期性誤差）引起的，導(dǎo)致波長遵循光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)的非預(yù)期路徑。

雜散光的影響是在任何給定波長下產(chǎn)生明顯較高的信號(hào)電平，并對(duì)信噪比 (SNR) 產(chǎn)生負(fù)面影響。我們使用的專有閃耀技術(shù)可顯著減少閃耀光柵中的雜散光，特別是與離子光柵相比 -蝕刻全息光柵。

偏振

光源的偏振會(huì)極大地影響光柵的效率。 重要的是要了解從光柵衍射的光能通常會(huì)發(fā)生偏振。 因此，當(dāng)用非偏振光照射光柵時(shí)，產(chǎn)生的衍射能量將被偏振，如下圖所示。 較高的凹槽頻率會(huì)增加偏振分離。

除非另有說明，大多數(shù)光柵都經(jīng)過調(diào)整以實(shí)現(xiàn)非偏振光的最大效率。 然而，一些光柵將標(biāo)有 P 偏振或 S 偏振的最大效率。 P 偏振，也稱為 TE 偏振，是指入射光平行于光柵凹槽偏振。 S偏振，也稱為TM偏振，是指入射光垂直于光柵凹槽偏振。有趣的是，人眼只能看到（或感知）電矢量（E）。

圖 1.沿 X 方向傳播的光在 YZ 平面中發(fā)生偏振。 “E"是電矢量，在該圖中，它平行于 Z 平面。 “H"是磁矢量，它平行于Y平面。

刻劃光柵與全息光柵

由于制造過程的機(jī)械性質(zhì)，無法生產(chǎn)出沒有缺陷的刻劃衍射光柵，這些缺陷可能包括周期性誤差、間距誤差和表面不規(guī)則性。 所有這些都會(huì)增加雜散光和重影（由周期性誤差引起的錯(cuò)誤光譜線）。

從以前看，刻劃衍射光柵比全息衍射光柵提供更高的效率，但隨著閃耀全息衍射光柵的引入，情況不再總是如此。

用于制造全息衍射光柵的光學(xué)技術(shù)不會(huì)產(chǎn)生周期性誤差、間距誤差或表面不規(guī)則性。 這意味著全息光柵顯著減少了雜散光（與刻劃光柵相比，雜散光通常低 10 倍）并且沒有重影。

此外，與全息光柵相比，凹面光柵對(duì)于刻劃光柵存在特定的問題。 刻劃凹面光柵不能用于平場成像應(yīng)用，因?yàn)楣鈻诺耐队鞍疾蹐D案總是產(chǎn)生直線、等距線，因此需要額外的光學(xué)器件來校正像差。 然而，全息凹面光柵可以設(shè)計(jì)和生產(chǎn)帶有彎曲凹槽的產(chǎn)品，從而產(chǎn)生像差校正圖像。 全息凹面光柵還可以生產(chǎn)出比刻劃凹面光柵更低的 f 值。

對(duì)于幾乎所有應(yīng)用，與刻劃衍射光柵相比，閃耀全息衍射光柵將提供明顯更好的整體性能。 僅當(dāng)凹槽密度或光譜范圍要求無法使用閃耀全息衍射光柵時(shí)，才應(yīng)使用刻劃衍射光柵。

主衍射光柵與復(fù)制衍射光柵

在大多數(shù)情況下，復(fù)制品衍射光柵的光學(xué)性能實(shí)際上與生產(chǎn)它的母版的性能沒有區(qū)別。 很少有應(yīng)用能夠受益于使用主光柵而不是復(fù)制光柵。

復(fù)制品光柵的成本通常也比原版光柵低（特別是對(duì)于批量生產(chǎn)），并且光柵與光柵之間具有更好的一致性。

我們的專有閃耀技術(shù)還意味著我們的復(fù)制閃耀光柵表現(xiàn)出非常高的效率（尤其是在紫外線下），并且與使用其他類型閃耀方法生產(chǎn)的光柵相比，雜散光顯著降低。

涂料

根據(jù)應(yīng)用和所需的波長范圍，衍射光柵可以提供多種不同的涂層選項(xiàng)。

對(duì)于紫外線、可見光和紅外線應(yīng)用，通常使用鋁涂層，因?yàn)榕c銀相比，鋁涂層更耐氧化，并且具有更好的紫外線性能。

鋁在 200 nm 至遠(yuǎn)紅外范圍內(nèi)的平均反射率大于 90%，但在 750 - 900 nm 區(qū)域除外，該區(qū)域的平均反射率約為 85%。

銀涂層可以在 450nm 至 2μm 的可見光和近紅外波段提供更好的性能。

對(duì)于紅外性能，金涂層在 700nm 至 10μm 范圍內(nèi)提供約 97% 的高反射率。

衍射光柵上提供的典型涂層包括：

• 裸鋁

• 受保護(hù)的鋁（具有 MgF2 或 SiO2 層來保護(hù)鋁）

• 增強(qiáng)型鋁（鋁頂部的多層電介質(zhì)膜用于增加可見光或紫外線區(qū)域的反射率）

• 受保護(hù)的銀

• 紅外用途金（700nm 至 10μm ~97%R）

• 還可提供專業(yè)涂層，例如低至 120 nm 的 DUV 涂層。

全息光柵的類型

全息光柵是利用全息干涉圖案的光刻技術(shù)制造的衍射光柵。

兩束相交的激光束產(chǎn)生等間隔的干涉條紋，這些干涉條紋被投射到光柵基板上的光刻膠材料上。 光致抗蝕劑的溶解與條紋的強(qiáng)度成比例，從而形成具有正弦輪廓的全息光柵。

然后在全息光柵上涂上反射涂層。 通常可以是鋁、增強(qiáng)鋁、銀或金。

由于全息衍射光柵沒有周期性誤差或缺陷，因此與刻劃光柵相比，它的雜散光明顯減少，并且沒有重影效應(yīng)。

全息光柵可以被閃耀以產(chǎn)生在限定的光譜區(qū)域內(nèi)提高了效率的閃耀光柵。

正弦全息光柵

正弦光柵是一種具有正弦凹槽輪廓的衍射光柵，其中凹槽是對(duì)稱的并且沒有閃耀方向。

它們通常使用干涉光刻來生產(chǎn)，從而產(chǎn)生光滑的凹槽表面并消除刻劃光柵中發(fā)現(xiàn)的周期性誤差。

通常，與閃耀光柵相比，正弦光柵提供更寬的光譜覆蓋范圍，但效率較低。

然而，在凹槽間距和波長比接近一致的某些條件下，正弦光柵可以表現(xiàn)出與閃耀光柵相同的效率。

閃耀全息光柵

閃耀全息光柵是一種衍射光柵，其中正弦輪廓已轉(zhuǎn)換為“鋸齒"輪廓。 這種鋸齒形輪廓有效地提高了閃耀光柵在所需波長范圍內(nèi)的效率。

閃耀波長是光柵提供最大效率的波長。 閃耀全息衍射光柵可以使用多種技術(shù)來制造。

通常，閃耀光柵使用離子束蝕刻來創(chuàng)建鋸齒輪廓，但是，我們使用專有技術(shù)來創(chuàng)建閃耀光柵，與離子蝕刻閃耀光柵相比，該光柵具有高紫外線效率和顯著降低的雜散光。

閃耀全息光柵提供與閃耀刻紋光柵相似的高效率，但雜散光顯著降低且無重影。

凹面光柵

凹面光柵的主要優(yōu)點(diǎn)是它可以用作儀器中的主要色散和聚焦元件。 凹面光柵減少了所需光學(xué)元件的數(shù)量，從而提高了吞吐量和儀器效率。

凹面光柵通常有四種類型：

• 閃耀全息凹面光柵

• 像差校正平場成像光柵

• 恒定偏差單色儀光柵

• 羅蘭型凹面光柵

閃耀全息凹面光柵

凹面閃耀光柵類似于標(biāo)準(zhǔn)閃耀光柵，其中凹槽輪廓已被修改以提高指出光譜區(qū)域的效率。 與某些其他類型的閃耀全息凹面光柵不同，我們生產(chǎn)的凹面光柵采用一種工藝生產(chǎn)，該工藝可產(chǎn)生在光柵表面變化的閃耀輪廓，從而提高整個(gè)圖像平面的效率。 通常可實(shí)現(xiàn) >80% 的效率。

像差校正（平場成像）凹面光柵

   像差校正凹面光柵（或平場成像光柵）具有既不平行也不等距的凹槽，旨在消除像散并允許在平面上成像完整的光譜范圍。

   這使得像差校正凹面光柵非常適合與平面陣列探測器（例如光電二極管陣列（PDA）或電荷耦合器件（CCD）探測器）一起使用。

恒定偏差單色儀凹面光柵

恒定偏差單色儀光柵是掃描單色儀中使用的一種凹面光柵，其中光柵旋轉(zhuǎn)并從入口狹縫穿過出口狹縫掃描信號(hào)。 入射信號(hào)和衍射信號(hào)之間的偏離角保持恒定。

與平面光柵相比，恒定偏差凹面光柵的主要優(yōu)點(diǎn)是它不需要準(zhǔn)直和聚焦光學(xué)器件，減少了光學(xué)元件的數(shù)量并增加了吞吐量。它還允許更緊湊的儀器設(shè)計(jì)。

羅蘭型凹面光柵

  羅蘭型凹面光柵是一種凹槽是直且等距的光柵。這種類型的凹面光柵將光譜衍射到羅蘭圓上，羅蘭圓被定義為圓的直徑等于凹面光柵的曲率半徑的圓。羅蘭型凹面光柵存在像散問題，但其他類型的像差很小。

脈沖壓縮光柵

脈沖壓縮光柵是一種特殊類型的平面正弦光柵，用于激光啁啾脈沖壓縮，通常優(yōu)化用于 1053nm。

脈沖壓縮光柵需要具有非常高的損傷閾值和高效率（利特羅入射、S 偏振>90%）。

透射光柵

透射光柵的生產(chǎn)方式與反射光柵相同，但凹槽設(shè)計(jì)用于衍射透射光。透射光柵效率高，并且通常比反射光柵更容易對(duì)準(zhǔn)。 為了產(chǎn)生高效率，透射光柵通常需要深槽輪廓。透射光柵通常帶有抗反射涂層。

我們不生產(chǎn)透射光柵。

電信光柵

現(xiàn)代電信允許通過光纖傳輸大量信息。 光柵可以通過分離各個(gè)波長來管理光纖中的信號(hào)，從而允許訪問信息。

電信應(yīng)用需要具有極低偏振相關(guān)損耗 (PDL) 和高衍射效率的光柵。 它們還需要具有高度的環(huán)境穩(wěn)定性和非常好的光柵重復(fù)性。

關(guān)于我們

我們自 2004 年以來一直在生產(chǎn)大批量平面、非球面和自由形狀反射光學(xué)器件、中空后向反射器和全息衍射光柵。

我們主要使用光學(xué)復(fù)制工藝，使我們能夠以比傳統(tǒng)批量制造更低的成本提供高保真、高規(guī)格的精密光學(xué)器件。

我們的關(guān)鍵能力之一是制造表面尺寸低至 λ/10 或更好的自由曲面光學(xué)器件、離軸拋物面鏡和橢球面鏡。 我們還制造平面、凹面和凸面全息衍射光柵，這些光柵可以使用我們專有的閃耀技術(shù)作為閃耀光柵提供，與傳統(tǒng)的離子蝕刻光柵相比，該技術(shù)不僅在紫外線下提供高效率，而且雜散光更低。

我們的高精度復(fù)制光學(xué)器件包括球面鏡、自由曲面鏡和非球面鏡（同軸或離軸拋物面鏡、橢圓鏡、環(huán)形鏡和柱面鏡）以及后向反射器、納米結(jié)構(gòu)、混合光學(xué)器件和復(fù)雜光學(xué)器件。

我們已通過 ISO 9001:2015 認(rèn)證且符合 RoHS 標(biāo)準(zhǔn)，我們的生產(chǎn)和測試區(qū)域符合太空標(biāo)準(zhǔn)，提供無硅生產(chǎn)環(huán)境，我們可以在其中復(fù)制用于星載望遠(yuǎn)鏡和光學(xué)互連系統(tǒng)的離軸拋物面、橢球面和自由曲面鏡。

我們?yōu)樵S多項(xiàng)目提供了多種超低雜散光光柵，包括軌道碳觀測站 (OCO) 和臭氧繪圖分析套件 (OMPS)。